資料顯示，芯秦微成立于2021年，專業(yè)從事半導體晶圓制造、半導體先進封裝和新型顯示等行業(yè)中功能性化學品的研發(fā)與生產。該公司主要產品包括化學機械拋光液（用于硅、碳化硅等襯底，集成電路和先進封裝）和功能性電子化學品（用于清洗、蝕刻、光刻去膠產品）。

據毅達資本介紹，化學機械拋光（CMP）是當今最主流的晶圓拋光技術，能夠降低晶圓表面的粗糙度，去除晶圓表面多余物，使晶圓有效地進行下一道加工程序。其中，化學機械拋光液決定了晶圓的拋光質量和拋光效率。在拋光過程中，晶圓廠會根據每一步晶圓芯片平坦度的加工要求，選擇符合去除率（MRR）和表面粗糙度（Ra）等指標要求的拋光液，來提高拋光效率和產品良率。

由此可知，拋光液是晶圓生產過程中的重要保障，作為拋光液廠商，晶圓廠新建或擴產相關布局，最終都有助于芯秦微發(fā)展壯大。

圖片來源：拍信網正版圖庫

其中，世界先進今年10月宣布將投資約20億美元在新加坡建立旗下首座12英寸晶圓廠，若建廠計劃順利推行，這將會是世界先進近年來最大的一筆投資；11月初，德州儀器(TI)表示，其位于美國猶他州李海的新12英寸半導體晶圓制造廠破土動工；聞泰科技近日則表示，旗下安世半導體在德國漢堡和英國曼徹斯特的晶圓廠還在不斷進行技術改造和升級，由公司控股股東投資建設的上海臨港晶圓廠一期已經完成試產。

目前，各大知名企業(yè)在晶圓廠投資擴產方面動作頻頻，隨著全球晶圓產能的持續(xù)攀升，對于在晶圓生產過程中扮演重要角色的拋光液產品而言，其市場需求也將水漲船高，芯秦微等相關企業(yè)或將很快能夠分食市場紅利。

同時，高科技行業(yè)關鍵技術和產品的國產化進程正在如火如荼的進行中，拋光液也是其中之一。隨著拋光液國產替代進程加快，芯秦微等企業(yè)有望迎來快速發(fā)展的機遇。

值得一提的是，另外一家拋光液玩家安集科技近日也有新進展。11月6日，安集科技在參加投資機構調研會時表示，公司成功打破了國外廠商對集成電路領域化學機械拋光液的壟斷，實現(xiàn)了進口替代。

據安集科技介紹，公司化學機械拋光液已實現(xiàn)全品類產品線的布局和覆蓋。目前，公司為客戶定制開發(fā)的用于第三代半導體襯底材料的拋光液，進展順利，部分產品已獲得海外客戶訂單。

不僅要實現(xiàn)國產替代，還要進一步打開國際市場，國產拋光液產業(yè)未來可期。（化合物半導體市場Zac整理）

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