晶盛機(jī)電、拉普拉斯2024年報(bào)出爐

作者 | 發(fā)布日期 2025 年 04 月 21 日 14:08 | 分類 企業(yè) , 碳化硅SiC

近期,拉普拉斯、晶盛機(jī)電兩家碳化硅領(lǐng)域相關(guān)公司相繼公布2024年報(bào)。

 

1、拉普拉斯?fàn)I收同比增長(zhǎng)93.12%

拉普拉斯實(shí)現(xiàn)營(yíng)業(yè)總收入57.28億元,同比增長(zhǎng)93.12%;歸屬凈利潤(rùn)7.29億元,同比增長(zhǎng)77.53%。
2024年,拉普拉斯研發(fā)費(fèi)用為2.96億元,同比增長(zhǎng)27.5%,占營(yíng)收比例5.17%。新增專利申請(qǐng)471項(xiàng)(發(fā)明專利127項(xiàng)),涵蓋ALD(原子層沉積)、EPD(電泳沉積)等前沿設(shè)備,技術(shù)儲(chǔ)備覆蓋HJT、鈣鈦礦等下一代電池工藝。

2024年拉普拉斯境外收入7.23億元,同比激增24倍,營(yíng)收占比從0.5%躍升至12.61%。

報(bào)告期內(nèi),拉普拉斯半導(dǎo)體設(shè)備收入3903萬(wàn)元,同比增長(zhǎng)127.67%,碳化硅退火爐已獲國(guó)內(nèi)大廠訂單,目標(biāo)2025年?duì)I收占比突破5%。

資料顯示,拉普拉斯是一家高效光伏電池片核心工藝設(shè)備及解決方案提供商,其半導(dǎo)體分立器件設(shè)備產(chǎn)品包括碳化硅基半導(dǎo)體器件用超高溫氧化爐和碳化硅基半導(dǎo)體器件用超高溫退火爐。

 

2、晶盛機(jī)電化合物半導(dǎo)體領(lǐng)域進(jìn)展迅速

近期,晶盛機(jī)電發(fā)布的2024年年報(bào)顯示,該公司報(bào)告期內(nèi)營(yíng)業(yè)總收入為175.77億元,同比下降2.26%;歸屬凈利潤(rùn)為25.10億元,同比下降44.93%。

報(bào)告期內(nèi),晶盛機(jī)電在化合物半導(dǎo)體設(shè)備與材料領(lǐng)域取得了一定進(jìn)展。

化合物半導(dǎo)體裝備領(lǐng)域,晶盛機(jī)電成功研發(fā)了8英寸單片式和雙片式碳化硅外延生長(zhǎng)設(shè)備,具備單腔同時(shí)加工2片晶圓的能力,極大提升了設(shè)備的單位產(chǎn)能,有效降低了碳化硅外延片的生產(chǎn)成本。8英寸碳化硅中束流離子注入機(jī)、立式碳化硅氧化爐和激活爐等設(shè)備也實(shí)現(xiàn)了穩(wěn)定量產(chǎn)。

source:晶盛機(jī)電(圖為8英寸雙片式碳化硅外延爐)

與此同時(shí),晶盛機(jī)電快速推進(jìn)8英寸碳化硅襯底產(chǎn)能爬坡,已掌握8英寸光學(xué)級(jí)碳化硅晶體的穩(wěn)定工藝,并積極推進(jìn)12英寸光學(xué)級(jí)碳化硅襯底材料的產(chǎn)業(yè)化。(集邦化合物半導(dǎo)體 秦妍 整理)

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