氧化鎵領(lǐng)域強(qiáng)強(qiáng)合作,國內(nèi)廠商發(fā)力!

作者 | 發(fā)布日期 2025 年 05 月 19 日 15:28 | 分類 企業(yè) , 氧化鎵

5月16日,中國氧化鎵襯底領(lǐng)域領(lǐng)先企業(yè)鎵仁半導(dǎo)體與德國氧化鎵外延頭部企業(yè) NextGO.Epi 簽署全球戰(zhàn)略合作協(xié)議,雙方將依托技術(shù)優(yōu)勢協(xié)同攻關(guān),聚焦超寬禁帶半導(dǎo)體材料氧化鎵的研發(fā)與產(chǎn)業(yè)化,此次強(qiáng)強(qiáng)聯(lián)合將共同推動(dòng)氧化鎵在新能源、電力電子等領(lǐng)域的應(yīng)用突破,為全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)注入新動(dòng)能。

資料顯示,NextGO Epi成立于2025年, 專注于高品質(zhì) β-Ga?O? (氧化鎵) 外延片的大規(guī)模制造,旨在為高功率和光電探測應(yīng)用提供關(guān)鍵材料。NextGO Epi 是德國萊布尼茨晶體生長研究所(IKZ)的孵化企業(yè),由周大順博士、Andreas Popp 博士和 Andreas Fiedler 博士共同創(chuàng)立。

source:鎵仁半導(dǎo)體——圖為NextGO Epi?坐落于德國柏林萊布尼茨晶體研究所

鎵仁半導(dǎo)體則是一家專注于氧化鎵等寬禁帶半導(dǎo)體材料研發(fā)、生產(chǎn)和銷售的科技型企業(yè)。鎵仁半導(dǎo)體引領(lǐng)行業(yè)創(chuàng)新,采用自主研發(fā)的鑄造法單晶生長新技術(shù),全球首發(fā)8英寸氧化鎵單晶襯底,創(chuàng)造了從2英寸到8英寸,每年升級一個(gè)尺寸的行業(yè)紀(jì)錄;開發(fā)了國內(nèi)首臺(tái)包含工藝包的氧化鎵專用VB長晶設(shè)備,全面對外銷售。

業(yè)界指出,氧化鎵(Ga?O?)是第四代半導(dǎo)體材料,因其超寬禁帶、高擊穿場強(qiáng)和低成本潛力,正成為電力電子、軍事雷達(dá)、電動(dòng)汽車充電等領(lǐng)域的關(guān)鍵材料。

我國在氧化鎵領(lǐng)域已形成從材料生長到器件研發(fā)的完整產(chǎn)業(yè)鏈,部分技術(shù)達(dá)國際領(lǐng)先水平,主要氧化鎵公司包括北京鎵族科技、杭州富加鎵業(yè)、中電科46所、鎵仁半導(dǎo)體等。與此同時(shí),西安電子科技大學(xué)、浙江大學(xué)等高校也為氧化鎵技術(shù)突破做出了貢獻(xiàn)。

(集邦化合物半導(dǎo)體 Flora 整理)

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