安世半導(dǎo)體推出采用行業(yè)領(lǐng)先頂部散熱型封裝X.PAK的1200 V SiC MOSFET

作者 | 發(fā)布日期 2025 年 03 月 20 日 10:52 | 分類 碳化硅SiC

近日,Nexperia(安世半導(dǎo)體)正式推出一系列性能高效、穩(wěn)定可靠的工業(yè)級1200 V碳化硅(SiC) MOSFET。該系列器件在溫度穩(wěn)定性方面表現(xiàn)出色,采用創(chuàng)新的表面貼裝 (SMD) 頂部散熱封裝技術(shù)X.PAK。X.PAK封裝外形緊湊,尺寸僅為14 mm ×18.5 mm,巧妙融合了SMD技術(shù)在封裝環(huán)節(jié)的便捷優(yōu)勢以及通孔技術(shù)的高效散熱能力,確保優(yōu)異的散熱效果。

此次新品發(fā)布精準(zhǔn)滿足了眾多高功率(工業(yè))應(yīng)用領(lǐng)域?qū)Ψ至⑹絊iC MOSFET不斷增長的需求,該系列器件借助頂部散熱技術(shù)的優(yōu)勢,得以實(shí)現(xiàn)卓越的熱性能表現(xiàn)。這些器件在電池儲(chǔ)能系統(tǒng)(BESS)、光伏逆變器、電機(jī)驅(qū)動(dòng)器以及不間斷電源(UPS)等工業(yè)應(yīng)用場景中表現(xiàn)卓越。此外,在包括充電樁在內(nèi)的電動(dòng)汽車充電基礎(chǔ)設(shè)施領(lǐng)域同樣能發(fā)揮出眾效能。

X.PAK封裝允許將散熱器直接連接至引線框架,進(jìn)一步提升了Nexperia SiC MOSFET的散熱性能,實(shí)現(xiàn)從外殼頂部高效散熱。這一設(shè)計(jì)有效降低了通過PCB散熱所帶來的負(fù)面影響。同時(shí),Nexperia的X.PAK封裝使表面貼裝組件具備低電感特性,并支持自動(dòng)化電路板封裝流程。?新款X.PAK封裝器件具備Nexperia SiC MOSFET一貫的優(yōu)異品質(zhì)因數(shù)(FoM)。

其中,RDS(on)作為關(guān)鍵參數(shù),對導(dǎo)通損耗影響顯著。然而,許多制造商往往僅關(guān)注該參數(shù)(常溫)的標(biāo)稱值,卻忽略了一個(gè)事實(shí),即隨著器件工作溫度的升高,標(biāo)稱值可能會(huì)增加100%以上,從而造成相當(dāng)大的導(dǎo)通損耗。與之不同,Nexperia SiC MOSFET展現(xiàn)出出色的溫度穩(wěn)定性,在25℃至175℃的工作溫度區(qū)間內(nèi),RDS(on)的標(biāo)稱值僅增加38%。(集邦化合物半導(dǎo)體整理)

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