SiC設備廠商季華恒一完成首輪融資

作者 | 發(fā)布日期 2024 年 05 月 15 日 17:28 | 分類 企業(yè)

今年以來,SiC產業(yè)持續(xù)火熱發(fā)展,帶動相關廠商頻頻獲得融資,其中有不少新面孔。近日,繼SiC相關拋光研磨材料廠商盈鑫半導體完成首輪融資后,這家SiC設備廠商也官宣跟進。

圖片來源:拍信網正版圖庫

5月11日,季華恒一(佛山)半導體科技有限公司(以下簡稱季華恒一)在官網公布,其近日完成A輪融資。季華恒一本輪融資由優(yōu)山資本領投,季華璀璨(佛山)投資有限公司跟投。

作為季華實驗室(先進制造科學與技術廣東省重點實驗室)的科技成果產業(yè)化公司,季華恒一成立于2021年6月,專注于寬禁帶半導體和新能源領域的半導體裝備產業(yè)化。著力于開發(fā)滿足高良率、穩(wěn)定生產需求的SiC單晶生長系統(tǒng)、SiC高溫外延生長系統(tǒng)、高溫離子注入系統(tǒng)、高溫氧化系統(tǒng)、快速退火系統(tǒng)、電子束蒸鍍系統(tǒng)、磁控濺射鍍膜系統(tǒng)等裝備。

早在2022年4月,季華實驗室成功研制出6英寸SiC高溫外延裝備,整機國產化率超過85%。同年11月,季華實驗室“寬禁帶半導體SiC高溫外延生長裝備開發(fā)和產業(yè)化”項目順利通過中期檢查。

背靠季華實驗室,季華恒一近年來穩(wěn)步推進SiC設備研發(fā)與產品交付。去年5月,季華恒一宣布自主研發(fā)的高溫離子注入設備交付客戶,可兼容4至8英寸SiC晶片的離子注入工藝。

同年7月,季華恒一為浙江芯科半導體公司提供外延、光刻、高溫注入、激活退火、背面減薄、激光退火等關鍵工藝設備,成功試制首批6英寸1200V SiC JBS 晶圓樣品。經檢測,良品率超過95%。12月,其SiC激光退火設備再次交付新訂單。

通過本輪融資,借助投資方的資金支持,季華恒一有望進一步提升品牌影響力和擴大市場份額。(集邦化合物半導體Zac整理)

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