電科裝備介紹大尺寸SiC襯底制備整線解決方案

作者 | 發(fā)布日期 2025 年 04 月 03 日 18:06 | 分類 企業(yè) , 碳化硅SiC
SEMICON China 2025期間,中國(guó)電科第二研究所胡北辰博士代表電科裝備作“大尺寸SiC襯底制備整線解決方案”的專題報(bào)告。

source:中國(guó)電科

胡北辰博士指出,SiC單晶生長(zhǎng)與切磨拋加工是第三代半導(dǎo)體器件成本降低、良率提升的重要工藝環(huán)節(jié)。針對(duì)這一重點(diǎn)問題,2所以“裝備+工藝+服務(wù)”的理念,面向行業(yè)迫切需求,將電科裝備的單晶生長(zhǎng)、激光剝離、晶錠/晶圓減薄、化學(xué)機(jī)械拋光、缺陷檢測(cè)等核心設(shè)備產(chǎn)品有機(jī)結(jié)合,并融入信息化系統(tǒng),形成了大尺寸碳化硅晶片生長(zhǎng)加工的整線智能制造解決方案。

與傳統(tǒng)的材料加工自動(dòng)化程度不高、重點(diǎn)依賴人力相比,該方案核心設(shè)備都具備高度自動(dòng)化能力,且通過協(xié)作機(jī)器人在機(jī)臺(tái)間的物料傳輸,實(shí)現(xiàn)整線協(xié)同控制與柔性調(diào)度,減少設(shè)備等待時(shí)間,提高整體生產(chǎn)效率。同時(shí),自動(dòng)化生產(chǎn)流程能讓人為誤差降至最低,保障產(chǎn)品良率和一致性,配套的全流程數(shù)據(jù)記錄與分析也更利于工程師快速定位質(zhì)量問題根源,不斷改進(jìn)生產(chǎn)工藝。

該方案通過晶體生長(zhǎng)與加工多工藝協(xié)同優(yōu)化,可將8英寸單片切割時(shí)間由90分鐘縮短到25分鐘左右,單片加工損耗從220微米降低到80微米,助力客戶實(shí)現(xiàn)降本增效,提升產(chǎn)品競(jìng)爭(zhēng)力。

目前該解決方案已獲得市場(chǎng)積極反饋,進(jìn)入用戶產(chǎn)線開展試驗(yàn)驗(yàn)證,并與多家頭部企業(yè)達(dá)成意向合作。(集邦化合物半導(dǎo)體整理)

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