據(jù)九峰山實(shí)驗(yàn)室3月22日消息,九峰山實(shí)驗(yàn)室的科研團(tuán)隊(duì)在全球首創(chuàng)性地實(shí)現(xiàn)了8英寸硅基氮極性氮化鎵(N-polar GaNOI)高電子遷移率材料的制備,這一成果不僅標(biāo)志著我國在半導(dǎo)體材料領(lǐng)域的重大進(jìn)步,更為未來諸多前沿技術(shù)的發(fā)展奠定了堅(jiān)實(shí)基礎(chǔ)。
1、技術(shù)突破:氮極性氮化鎵材料的制備
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全球首創(chuàng)!我國九峰山實(shí)驗(yàn)室在氮化鎵材料新突破 |
作者 KikiWang|發(fā)布日期 2025 年 03 月 24 日 14:17 | 分類 企業(yè) , 氮化鎵GaN |