晶體管技術大革新:新技術可使散熱能力提高2倍以上

作者 | 發(fā)布日期 2024 年 01 月 03 日 17:56 | 分類 功率

據(jù)報道,大阪公立大學(Osaka Metropolitan University)研究小組利用地球上導熱性最高的天然材料——金剛石為襯底,制作出了氮化鎵(GaN)晶體管,其散熱能力比傳統(tǒng)晶體管提高了2倍以上。

據(jù)悉,該晶體管不僅可以用于5G通信基站、氣象雷達、衛(wèi)星通信等領域,還可以用于微波加熱、等離子體處理等領域。最新研究成果已于近期發(fā)表在了“Small”雜志上。

隨著半導體器件的日益小型化,出現(xiàn)了諸如功率密度和熱量產(chǎn)生的增加等問題,這些問題會影響這些器件的性能、可靠性和壽命。

據(jù)了解,金剛石上的氮化鎵(GaN)顯示出作為下一代半導體材料的前景,因為這兩種材料的帶隙都很寬,可實現(xiàn)高導電性和金剛石的高導熱性,將其定位為卓越的散熱基板。

圖片來源:拍信網(wǎng)正版圖庫

此前,科學家們已經(jīng)嘗試通過將兩種成分與某種形式的過渡層或粘附層結合來創(chuàng)建金剛石上的GaN結構,但在這兩種情況下,附加層都顯著干擾了金剛石的導熱性,破壞了GaN金剛石的一個關鍵優(yōu)勢組合。

在最新研究中,大阪公立大學的科學家們成功地用金剛石作為襯底制造了GaN高電子遷移率晶體管。這種新技術的散熱性能是在碳化硅(SiC)襯底上制造的相同形狀晶體管的兩倍以上。

為了最大限度地提高金剛石的高導熱性,研究人員在GaN和金剛石之間集成了一層3C-SiC(立方碳化硅)層。該技術顯著降低了界面的熱阻,提高了散熱性能。

研究人員說,“這項新技術有可能大幅減少二氧化碳排放,并有可能通過改善熱管理能力,徹底改變電力和射頻電子產(chǎn)品的發(fā)展。”(來源:財聯(lián)社)

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